VEECO推出高產能離子束沉積鍍膜機系統
摘要： 4月16日，Veeco公司在比利時布魯塞爾正式發布了應用于光學鍍膜的離子束沉積(IBD)系統SPECTOR-HT?。與前一代的鍍膜機設備SPECTOR相比較，SPECTOR-H?最多能提供400%的產能增長，靶材使用率提高300%，材料生長的均勻性提高50%。
【新世紀LED網】4月16日，Veeco公司(納斯達克股票代碼：VECO)在比利時布魯塞爾Square Brussels Meeting Centre由國際光學工程學召開的歐洲光子學展上，正式發布了應用于光學鍍膜的離子束沉積(IBD)系統SPECTOR-HT™。與前一代的鍍膜機設備SPECTOR相比較，SPECTOR-H™最多能提供400%的產能增長，靶材使用率提高300%，材料生長的均勻性提高50%。此外，該新系統提供卓越的薄膜質量，并為各種光學應用提供低成本的生產平臺，包括精密光學、激光、生命科學、生物醫學設備以及通信。
Veeco離子束設備執行副總裁Robert P. Oats表示：“Veeco在全球安裝超過200臺設備，是公認的光學業內離子束沉積鍍膜的領導者。與其他相關技術相比，例如物理氣相沉積(PVD)，蒸發鍍膜或者里子輔助沉積，新一代的SPECTOR-HT™系統提供無與倫比的產能優勢和低成本平臺。”
SPECTOR-HT™ 是業內首個完全自動化的離子束沉積系統。實現了在媲美PVD的快速沉積速率下保證高質量、優化薄膜以滿足挑戰性的生產要求。在批量生產時新系統要比前一代的SPECTOR沉積速律快2倍。
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