Si基ZnO/Ga_2O_3氨化反應制備GaN薄膜
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上傳人：莊惠照,高海永,薛成山,王書運,董志華 上傳時間： 2011-10-25 瀏覽次數： 82 |
| 作者 | 莊惠照,高海永,薛成山,王書運,董志華 |
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| 單位 | 山東師范大學物理與電子科學學院 |
| 分類號 | TN30423 |
| 發表刊物 | 微細加工技術 |
| 發布時間 | 2004年02期 |
引言
GaN是一種寬帶隙ⅢⅤ族化合物半導體材料,室溫下禁帶寬度為3.4eV[1],對應的波長覆蓋了紅光到近紫外光的范圍。GaN同時具有高發光效率、高熱導率、耐高溫、抗輻射、耐酸堿、高強度和高硬度等特性,在半導體工業中被譽為第三代半導體材料,在微電子、光電子等領域成為研究……
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